取扱いガス一覧
- 主要ガス
- 酸素／窒素／液化窒素／アルゴン／炭酸 ／ドライアイス／溶解アセチレン／水素／ヘリウム／アンモニア／亜酸化窒素／LPG
- その他の特殊ガス・混合ガス・溶断・溶接
- サンカッターHL1／各種サンアーク／各種レーザーガス
- 冷媒ガス・フロン系ガス
- 各種フロン／CF4
- 医療ガス
- 滅菌ガス
- 希ガス
- ネオン／クリプトン／キセノン
- 炭化水素系
- オートガス／メタン／プロパン／ノルマル-ブタン／イソブタン
- 材料ガス
- フッ素／フッ化水素／六フッ化硫黄／臭化水素／臭化メチル／ヨウ化水素／硫化水素／二酸化硫黄／一酸化窒素／二酸化窒素／一酸化炭素／トルエン／塩素／塩化水素／クロロホルム／四塩化炭素／モノシラン／ジクロロシラン／ジシラン／四塩化ケイ素／三フッ化窒素／六フッ化タングステン／アルシン／ホスフィン／三フッ化リン／三塩化リン／ジボラン／三フッ化ホウ素／三塩化ホウ素／ゲルマン／セレン化水素
主要ガスの特徴
酸素ガス
- 特徴
-
・無色、無味、無臭のガス
・空気よりも若干重い
・化学的には極めて活性が高く、他の物を酸化する力（酸化性・支燃性）が強い
- 用途
- ・溶断用の支燃性ガス
・『食品』食肉の発色
・『医療』吸入、人工呼吸器、高圧酸素治療装置
窒素ガス
- 特徴
-
・無色、無味、無臭のガス
・空気よりもやや軽い
・常温や低温では化学的に不活性で、他の物と化合しにくい性質を持っている
- 用途
- ・半導体や金属化合物などの各種熱処理の製造雰囲気ガス
・『食品』食品包装時の酸化防止
・『医療』手術用器具の駆動源
液化窒素ガス
- 特徴
- ・超低温液化ガス（沸点-196℃）
・無色、無味、無臭の液化ガス
・密閉空間での急激な気化は、窒息の原因となる
- 用途
- ・急速冷凍
・『医療』冷凍保存用
・『医療』イボの凍結療法
アルゴンガス
- 特徴
- ・無色、無味、無臭のガス
・空気よりも若干重い
・高温、高圧でも他の元素と化合しない、化学的にきわめて安定
- 用途
- ・『食品』食品包装時の酸化防止 （ワイン等）
・溶断用シールドガス
・ステンレス鋼精錬
・シリコン単結晶製造時の雰囲気ガス
炭酸ガス
- 特徴
- ・空気よりも若干重い
・容器内に液状で充填
・炭酸ガス濃度が高いと、二酸化炭素中毒の恐れがある
- 用途
- ・溶接用シールドガス
・炭酸冷媒
・樹脂発泡
・植物促成栽培
・『食品』飲料の炭酸付加
・『食品』食品包装時の酸化防止
・『医療』腹腔鏡手術
・『医療』検査用
ドライアイス
- 特徴
- ・炭酸ガスを固体にしたもの
・-78.8℃の低温物質
・空気中で昇華し、気体の炭酸ガスとなる
- 用途
- ・ドライアイスブラスト
・金属の低温処理
・『食品』保冷輸送
溶解アセチレンガス
- 特徴
- ・無色で純粋なものはエーテルのような匂いがあるが、普通は共存する不純物のために特有の臭気がある
・非常に不安定なガスのため多孔質のマスを詰めた容器にアセトンまたはジメチルホルムアミドに溶解させて充填されている
- 用途
- ・鉄筋の圧接
・溶接・溶断・ろう付け
・焼き入れ
・原子吸光分析
・炭素化合物の炭素原料
水素ガス
- 特徴
- ・無色、無味、無臭のガス
・空気よりも軽い
・水素と酸素を混合したものは非常に燃焼しやすい
- 用途
- ・溶断
・アンモニアの製造
・脱硫
・金属の還元
・半導体洗浄
ヘリウムガス
- 特徴
- ・無色、無味、無臭のガス
・空気よりも軽い
・液化状態では-273℃の超低温
- 用途
- ・風船等の浮揚ガス
・ガラスを焼成時の雰囲気ガス
・MRIに使用する超電導電磁石の冷却
アンモニアガス
- 特徴
- ・強い刺激臭があり、毒性がある
・空気よりも軽い
・水に溶けると塩基性を示す
- 用途
- ・窒素肥料の原料
・銀メッキの還元剤
・金属表面処理の雰囲気ガス
・冷媒
亜酸化窒素(笑気)ガス
- 特徴
- ・麻酔性があり、かすかに芳香臭がある
・空気より重い
・笑気濃度が高いと、物質は激しく燃焼する
- 用途
- ・『食品』泡立て、ムース作製
・『医療』麻酔
LPG
- 特徴
- ・純粋なLPガスは無色無臭だが、漏洩時に感知できるように硫黄系化合物で着臭している
・空気より重い
・容器内で液状で充填
- 用途
- ・溶接・溶断
・炉の燃料ガス
・厨房機器・食品工場の燃料
・空調
